产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > 仪器仪表 > 干燥器 > HTX赫尔纳供应美国saes净化器LS2

赫尔纳供应美国saes净化器LS2

更新时间:2024-06-13

访问量:253

厂商性质:经销商

生产地址:

简要描述:
赫尔纳供应美国saes净化器LS2 saes净化器液体过滤器外壳具有多种性能和操作员安全优势。聚合物外壳或带有 PTFE 衬里的外壳通常用于清洁度要求较高的应用以及对金属渗入工艺材料更敏感的应用。
品牌其他品牌电源方式交流电
货号646额定频率646Hz
额定电压220v额定功率7546w

赫尔纳供应美国saes净化器LS2

赫尔纳供应美国saes净化器LS2

赫尔纳供应美国总部直接采购saes过滤器,原装产品,货期好,支持选型,为您提供一对一好的解决方案:赫尔纳大连公司在中国设有10个办事处,可为您提供好的维修服务。

公司简介:

作为一家制造商合作推动技术持续进步的公司,我们拥有基础设施,包括战略性布局的制造基地、研发设施和客户支持。我们进行基础设施投资,使我们更接近有地区的客户。我们技术的团队成员、设施和资源就在您需要的地方,可以帮助您解决技术。

saes净化器产品名称:

saes净化器

Saes过滤器

saes净化器产品型号:

LS2

SP/SN

HT

HTX

saes净化器产品特点:

材料:   聚四氟乙烯

 支架、外壳   肺动脉高压

净化能力:   金属去除

净化能力: 4.30 毫克当量 1.18兆当量 0.48毫克当量

保留评级:15纳米

saes净化器产品应用:

saes净化器SP/SN 溶剂净化器有效去除各种纯、极性和非极性溶剂中的溶解和胶体金属污染物,包括难以去除的酮类,如环己酮。结构材料与多数有机光化学溶剂具有的化学兼容性,两种不同的净化介质类型可在极性和非极性溶剂中去除金属,与其他净化器技术相比,UPE 净化介质可提供清洁度.

saes净化器高效溶剂净化器/过滤器为 45 nm 以下技术节点中的关键栅极清洁 (FEOL) 应用提供的金属和颗粒去除效果.

saes净化器HT HTX 净化器一体式净化器/过滤设备,可在关键的去离子水清洁应用中提供对金属污染的保护。高效净化器,为高达 80°C 的去离子水应用而设计saes净化器有技术节点均具有的流速性能和污染物去除能力促进高温下快速启动和高产量高离子交换能力已证明具有的粒子性能,并且具有低的金属萃取物和更少的晶圆上粒子

saes净化器AT 2 nm 净化器一体式净化过滤器为腐蚀性溶剂提供净化,具有的颗粒保留和金属去除效率。

2 nm 截留率 PTFE 膜针对腐蚀性化学应用进行了优化的金属去除层,大程度发挥金属去除能力,长时间维持净化性能一体化设备可高效去除颗粒和金属,减少占地面积

全氟聚合物材料可实现净化UCM5P优化清洁方式,安装后可快速启动灵活的设备组合包括墨盒以及小型和大型一次性格式

saes净化器LS2 溶剂净化器大限度地提高光化学制造中使用的各种光化学溶剂和原材料的金属去除效率。新功能可使某些化学品的金属去除率超过 99%清洁度的提高创造了清洁的基质,从而缩短了过滤器的调节时间优化的形态延长了过滤器的使用寿命应用证明在常用的光化学溶剂中有效

saes净化器液体过滤器外壳具有多种性能和操作员安全优势。聚合物外壳或带有 PTFE 衬里的外壳通常用于清洁度要求较高的应用以及对金属渗入工艺材料更敏感的应用。不锈钢外壳通常用于高压、高温应用。控制工艺流中的污染物是提高运营效率和推动技术进步的重要方法。我们提供各种膜和介质,saes净化器每个制造环境的化学兼容性和工艺条件。这些过滤器为 5 nm 及以下节点而设计,对小污染物的保留进行了优化,并降低了晶圆上的缺陷率,同时提供过滤性能。UPE 膜可高效去除细小污染物,降低晶圆缺陷的可能性优化的流速可实现对小污染物的高保留,而不会影响生产率saes净化器采用我们新的 UPE 清洁工艺过滤工艺清洁度要求包括 10 英寸和 20 英寸滤芯以及一次配置达到您的应用需求


留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7